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Wuxi Special Ceramic Electrical Co.,Ltd
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Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment

Détails du produit

Lieu d'origine: Jiangsu, Chine

Nom de marque: Wuxi Special Ceramic

Certification: ISO 9001:2015

Numéro de modèle: WS-AL-PS14

Conditions de paiement et d'expédition

Quantité de commande min: 10 pièces

Prix: US$10~US$180/Piece

Détails d'emballage: Cartons de qualité export avec inserts en mousse, palettisés pour le fret maritime ou aérien

Délai de livraison: 15-30 jours après confirmation

Conditions de paiement: T/T, LC, Western Union

Capacité d'approvisionnement: 100 000 pièces par mois

Obtenez le meilleur prix
Mettre en évidence:

Polished Alumina Wafer Chuck

,

Mirror Finish Ceramic Part

,

Semiconductor Processing Equipment

Contenu en alumine:
99,5% Al2O3
Finition de surface:
Miroir poli
Rugosité de la surface:
Ra 0,02 um
Degré de pureté:
Qualité sous vide
Densité:
3,92 g/cm3
Couleur:
En ivoire
Application:
équipement de traitement des semi-conducteurs
la température maximum d'utilisation:
1700 degrés C
Contenu en alumine:
99,5% Al2O3
Finition de surface:
Miroir poli
Rugosité de la surface:
Ra 0,02 um
Degré de pureté:
Qualité sous vide
Densité:
3,92 g/cm3
Couleur:
En ivoire
Application:
équipement de traitement des semi-conducteurs
la température maximum d'utilisation:
1700 degrés C
Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chuck Mirror Finish Alumina Vacuum Grade for Semiconductor Processing Equipment
In semiconductor processing, the surface that touches the wafer must be perfect: smooth enough to avoid particle trapping, clean enough to avoid contamination, and stable enough to hold wafers flat at process temperature. Our Polished-Surface Al2O3 Ceramic Wafer Chucks are pressed and sintered from vacuum grade 99.5% alumina, then ground and polished to a mirror finish with roughness down to 0.02 microns Ra. The dense, non-porous surface releases wafers cleanly, resists the
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